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研究构图单元的整个重叠构成对于该技法在标志设计中应用是十分必要的，重叠可分为以下几个过程：1、并置：两个单元水平相对运动，并留有一定的距离，即为并置状态。并置状态是构成均衡的主要方法之一(下图1)。2、镶嵌：在并置状态的基础之上继续水平相对运动，使中间的距离越来越小并形成一个缝隙时，即为镶嵌状态(下图2)。3、连接：为单元处于镶嵌与重叠的临界状态。即在镶嵌的基础之上，如果两个单元相对运动某一距离，